浅谈热载流子效应(HCI) 2025 年 7 月 19 日2025 年 7 月 19 日 作者 LSTK 本文始于2025年6/7月,浅谈热载流子效应(HCI),旨在让读者基本了解 HCI 是什么,对设计有哪些影响, … 阅读更多
浅谈 Gate Oxide Integrity(GOI) 2025 年 7 月 3 日 作者 LSTK 本文始于2025年5月,浅谈栅氧完整性失效机制,旨在让读者基本了解 GOI 是什么,对设计有哪些影响,以及介绍 … 阅读更多
Virtuoso中常见文件解析 2025 年 7 月 6 日2025 年 6 月 16 日 作者 LSTK 本文始于2025年4月,主要介绍版图设计中涉及到的一些常见文件,并对各个文件进行讲解。要说的是,在这些文件中, … 阅读更多
Cadence CSF 机制详解 2025 年 5 月 13 日2025 年 5 月 13 日 作者 LSTK 本文始于2025年5月,在配置cadence软件设计环境时,往往需要对不同的配置文件进行自动加载,而常见的自动 … 阅读更多
芯片设计流程中的DEF文件语句解析 2025 年 5 月 12 日2025 年 5 月 5 日 作者 LSTK 本文始于2025年4月,主要讲解DEF中相关语句含义。旨在让读者可以了解DEF中的相关语句基本的用法和基本含义 … 阅读更多
Virtuoso Ignore(Open)Instance and Short Instance for export netlist 2025 年 4 月 28 日2025 年 4 月 28 日 作者 LSTK 本文始于2025年4月,主要介绍如何使用Ignore(Open)Instacne 与 Short Instan … 阅读更多
芯片设计流程中的Techfile文件语句解析 2025 年 5 月 12 日2025 年 4 月 25 日 作者 LSTK 本文始于2025年3月,主要讲解techfile中相关语句含义。旨在让读者可以了解techfile中的相关语句 … 阅读更多
芯片流片中常见的两种方式:MPW与Full Mask 2025 年 5 月 3 日2025 年 3 月 27 日 作者 LSTK 本文始于2025年03月,主要讲解流片过程中常见的两种方式,并给出相关优缺点。另涉及相关的专业术语的地方,本文 … 阅读更多
芯片设计流程中的LEF文件语句解析 2025 年 5 月 12 日2025 年 3 月 26 日 作者 LSTK 本文始于2025年3月,在完成《Abstract 提取LEF文件流程介绍》文章后,发现理解其LEF文件中各语句 … 阅读更多
Abstract 提取LEF文件流程介绍 2025 年 6 月 6 日2025 年 3 月 19 日 作者 LSTK 本文始于2024年12月,以Virtuoso Abstract Generator Version IC6.1 … 阅读更多