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浅谈 Gate Oxide Integrity(GOI)

2025 年 7 月 3 日 作者 LSTK

本文始于2025年5月,浅谈栅氧完整性失效机制,旨在让读者基本了解 GOI 是什么,对设计有哪些影响,以及介绍 … 阅读更多

分类 IC 标签 GOI 发表评论

Virtuoso中常见文件解析

2025 年 7 月 6 日2025 年 6 月 16 日 作者 LSTK

本文始于2025年4月,主要介绍版图设计中涉及到的一些常见文件,并对各个文件进行讲解。要说的是,在这些文件中, … 阅读更多

分类 IC、 Layout 设计 标签 cdsenv、 cdsinit、 DEF、 LEF、 Virtuoso 发表评论

Cadence CSF 机制详解

2025 年 5 月 13 日2025 年 5 月 13 日 作者 LSTK

本文始于2025年5月,在配置cadence软件设计环境时,往往需要对不同的配置文件进行自动加载,而常见的自动 … 阅读更多

分类 IC 标签 cdsenv、 cdsinit、 csf、 display、 Virtuoso 发表评论

芯片设计流程中的DEF文件语句解析

2025 年 5 月 12 日2025 年 5 月 5 日 作者 LSTK

本文始于2025年4月,主要讲解DEF中相关语句含义。旨在让读者可以了解DEF中的相关语句基本的用法和基本含义 … 阅读更多

分类 IC 标签 DEF、 Virtuoso 发表评论

Virtuoso Ignore(Open)Instance and Short Instance for export netlist

2025 年 11 月 27 日2025 年 4 月 28 日 作者 LSTK

本文始于2025年4月,主要介绍如何使用Ignore(Open)Instacne 与 Short Instan … 阅读更多

分类 IC 标签 calibre、 netlist、 Virtuoso 发表评论

芯片设计流程中的Techfile文件语句解析

2025 年 5 月 12 日2025 年 4 月 25 日 作者 LSTK

本文始于2025年3月,主要讲解techfile中相关语句含义。旨在让读者可以了解techfile中的相关语句 … 阅读更多

分类 IC 标签 techfile、 Virtuoso 发表评论

芯片流片中常见的两种方式:MPW与Full Mask

2025 年 5 月 3 日2025 年 3 月 27 日 作者 LSTK

本文始于2025年03月,主要讲解流片过程中常见的两种方式,并给出相关优缺点。另涉及相关的专业术语的地方,本文 … 阅读更多

分类 IC 标签 fullmask-mpw、 tapeout 发表评论

芯片设计流程中的LEF文件语句解析

2025 年 5 月 12 日2025 年 3 月 26 日 作者 LSTK

本文始于2025年3月,在完成《Abstract 提取LEF文件流程介绍》文章后,发现理解其LEF文件中各语句 … 阅读更多

分类 IC 标签 abstract、 LEF 发表评论

Abstract 提取LEF文件流程介绍

2025 年 6 月 6 日2025 年 3 月 19 日 作者 LSTK

本文始于2024年12月,以Virtuoso Abstract Generator Version IC6.1 … 阅读更多

分类 IC 标签 abstract、 LEF、 Virtuoso 发表评论

介绍LVS 验证的几种方法

2025 年 12 月 12 日2024 年 12 月 31 日 作者 LSTK

本文始于2024年12月,主要讲解屏蔽cell或包含第三方IP的版图如何正确跑LVS。文中案例以virtuos … 阅读更多

分类 IC 标签 calibre、 lvs box、 Virtuoso 发表评论
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