跳至内容

藍色天空

  • 首页
  • Layout设计
  • 信号完整性与仿真
  • 工艺与流程
  • 闲时生活
  • 关于本站

fullmask-mpw

芯片流片中常见的两种方式:MPW与Full Mask

2025 年 5 月 3 日2025 年 3 月 27 日 作者 LSTK

本文始于2025年03月,主要讲解流片过程中常见的两种方式,并给出相关优缺点。另涉及相关的专业术语的地方,本文 … 阅读更多

分类 IC 标签 fullmask-mpw、 tapeout 发表评论

SI/PI 博客专栏

網際星空

浏览最多的文章

  • Virtuoso 版图小技巧 (46,089)
  • 一文搞懂闩锁效应(Latch up) (36,760)
  • Virtuoso(Layout XL)高亮神器 Net Tracer功能介绍及使用方法 (20,123)
  • 芯片隔离技术(LOCOS 与 STI) (18,995)
  • “Copy”的进阶之路(Virtuoso) (16,770)

热门标签

abstract ansys Antenna effect bindkey calibre cap cap_fanout cdsenv cdsinit copy csf current dc DEF Device-Geometry-Effect display EM epitaxial layer ERC fullmask-mpw GOI guardring HCI IBIS IC-abbr-phrase latch-up LEF linux LOCOS lvs box matching NBTI netlist PDN Power integrity siwave skin-effect spisim STI tapeout techfile Virtuoso virtuoso-place-pin virtuoso tips VNC

正在播放

当前歌曲封面

正在载入

00:00 00:00
播放列表10 首
© 2024-2026 藍色天空.版权所有 . 皖ICP备2024045356号