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芯片设计流程中的DEF文件语句解析

2025 年 5 月 12 日2025 年 5 月 5 日 作者 LSTK

本文始于2025年4月,主要讲解DEF中相关语句含义。旨在让读者可以了解DEF中的相关语句基本的用法和基本含义 … 阅读更多

分类 IC 标签 DEF、 Virtuoso 发表评论

Virtuoso Ignore(Open)Instance and Short Instance for export netlist

2025 年 4 月 28 日2025 年 4 月 28 日 作者 LSTK

本文始于2025年4月,主要介绍如何使用Ignore(Open)Instacne 与 Short Instan … 阅读更多

分类 IC 标签 calibre、 netlist、 Virtuoso 发表评论

芯片设计流程中的Techfile文件语句解析

2025 年 5 月 12 日2025 年 4 月 25 日 作者 LSTK

本文始于2025年3月,主要讲解techfile中相关语句含义。旨在让读者可以了解techfile中的相关语句 … 阅读更多

分类 IC 标签 techfile、 Virtuoso 发表评论

芯片流片中常见的两种方式:MPW与Full Mask

2025 年 5 月 3 日2025 年 3 月 27 日 作者 LSTK

本文始于2025年03月,主要讲解流片过程中常见的两种方式,并给出相关优缺点。另涉及相关的专业术语的地方,本文 … 阅读更多

分类 IC 标签 fullmask-mpw、 tapeout 发表评论

芯片设计流程中的LEF文件语句解析

2025 年 5 月 12 日2025 年 3 月 26 日 作者 LSTK

本文始于2025年3月,在完成《Abstract 提取LEF文件流程介绍》文章后,发现理解其LEF文件中各语句 … 阅读更多

分类 IC 标签 abstract、 LEF 发表评论

Abstract 提取LEF文件流程介绍

2025 年 6 月 6 日2025 年 3 月 19 日 作者 LSTK

本文始于2024年12月,以Virtuoso Abstract Generator Version IC6.1 … 阅读更多

分类 IC 标签 abstract、 LEF、 Virtuoso 发表评论

介绍LVS 验证的几种方法

2025 年 5 月 3 日2024 年 12 月 31 日 作者 LSTK

本文始于2024年12月,主要讲解屏蔽cell或包含第三方IP的版图如何正确跑LVS。文中案例以virtuos … 阅读更多

分类 IC 标签 calibre、 lvs box、 Virtuoso 发表评论

介绍Virtuoso中自动放置Pin功能(飞Pin)

2024 年 12 月 19 日2024 年 12 月 18 日 作者 LSTK

本文始于2024年11月,主要讲解virtuoso(v6.1.8)中自动放置pin功能。其在版图layout过 … 阅读更多

分类 IC 标签 Virtuoso、 virtuoso-place-pin 发表评论

芯片隔离技术(LOCOS 与 STI)

2024 年 9 月 19 日 作者 LSTK

目录 1. LOCOS介绍 1.1 LOCOS定义 1.2 LOCOS技术中的”鸟嘴效应&#822 … 阅读更多

分类 IC 标签 LOCOS、 STI 发表评论

浅谈芯片制造中为什么需要外延层(Epitaxial Layer)?

2024 年 9 月 19 日 作者 LSTK

目录: 1. 外延层定义 2. 外延层的好处 3. 外延层常见的工艺参数 4. 问题与讨论 1. 外延层定义: … 阅读更多

分类 IC 标签 epitaxial layer 发表评论
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